Best Student Paper Award
Auf der Industriekonferenz „SPIE Photomask Technology and EUV Lithography 2017“ in Monterey, Kalifornien, hat Herr Sascha Brose den Best Student Paper Award (zweiter Platz) gewonnen.
Herr Brose hat auf der Konferenz die am Lehrstuhl TOS und Fraunhofer ILT entwickelte Nanostrukturierungsanlage EUV-LET (englisch: extreme ultraviolet laboratory exposure tool) präsentiert. Die Anlage dient zur Charakterisierung von Photoresists, die zur industriellen Herstellung von Halbleiterbauelementen benötigt werden. Unter Verwendung von hocheffizienten Transmissionsgittern können Interferenzmuster erzeugt werden, die zur chemischen Modifikation des Photoresists geeignet sind. Es konnte so eine derzeitige Rekordauflösung von 28 Nanometer für die laborbasierte Interferenzlithografie gezeigt werden. Weitere Details können dem Konferenzpaper entnommen werden.