Sven Glabisch erhält den EUV Tech Award for Emerging Talent in the Industry
Im Nachgang zur diesjährigen „SPIE Photomask Technology + EUV Lithography“ Konferenz vom 25. bis 29. September 2022 erhielt Sven Glabisch, wissenschaftlicher Mitarbeiter des Lehrstuhls für Technologie Optischer Systeme (TOS), den „EUV Tech Award for Emerging Talent in the Industry“.
Ein Komitee renommierter WissenschaftlerInnen kürte den Beitrag von Sven Glabisch zur Charakterisierung von Linienrauheiten von nanoskaligen, periodischen Gitterstrukturen mittels EUV-Spektrometrie als einen der eindrucksvollsten Beiträge der studentischen TeilnehmerInnen. Das für die Charakterisierung der nanoskaligen Strukturen verwendete Messsystem eines kompakten EUV-Spekrometers wurde von den Forschenden des TOS der RWTH Aachen University und des Fraunhofer ILT in einem kompakten Laboraufbau realisiert. Dieses Messsystem vermisst den winkel- und wellenlängenabhängigen Reflexionsgrad, um in modelbasierten Rekonstruktionsverfahren unter anderem die geometrischen Eigenschaften der nanoskaligen Struktur zu charakterisieren.
Im Rahmen der präsentierten Untersuchungen wurde das Messverfahren nun auch für die Rekonstruktion von Linienrauheiten genutzt. Die Untersuchungen sind von hohem Interesse für die Halbleiterbranche, da Linienrauheiten mit den kleinsten fertigbaren Strukturabmessungen korrespondiert.
Der Lehrstuhl für Technologie Optischer Systeme und die Institutsleitung gratulieren Herrn Glabisch zu dieser Ehrung und freuen sich sehr über diesen Erfolg!