EUV-Material-Wechselwirkung

 

EUV-Bestrahlungssysteme

Am Lehrstuhl TOS werden EUV-Bestrahlungssysteme realisiert, die es erlauben neuartige Materialien aus Forschung und Industrie mit definierten Bestrahlungsdosen zu beaufschlagen. Die Aufbauten unterscheiden sich hinsichtlich der verfügbaren Intensität, der daran gekoppelten maximalen Belichtungsdosis und dem verwendeten Wellenlängenbereich. Mit den Aufbauten können verschiedene Aufgabenstellungen adressiert werden:

1. Beschleunigte Lebensdauertests und generelle EUV-Strahlungsverträglichkeit
2. Materialmodifikationen unter EUV-Bestrahlung
3. Ausgasverhalten von Materialien innerhalb einer Gasatmosphäre
4. Degradations- und Kontaminationsstudien von optischen Bauteilen

   

Unter Verwendung von Kollektoren für den streifenden Einfall wird ein möglichst großer Raumwinkel der von der EUV-Quelle emittierten Strahlung aufgefangen und auf die zu bestrahlende Probe fokussiert. Mittels geeigneter in- und ex-situ Diagnostik können grundlegende Zusammenhänge der EUV-Material-Wechselwirkung untersucht werden. Aufbauten ohne Kollektoroptik erlauben experimentelle Untersuchungen mit kollimierter Strahlung wie sie z.B. für die Bestimmung des Streuverhaltens von Dünnschichtmembranen notwendig ist.

Verschiedene Forschungsschwerpunkte werden innerhalb der Gruppe bearbeitet:

• Weiterentwicklung des experimentellen Aufbaus hinsichtlich der Probennavigation, des Strahlprofils und der Temperaturstabilisierung
• Realisierung verschiedener Gasatmosphären für Untersuchungen zur EUV-Gas-Material-Wechselwirkung für anspruchsvolle messtechnische Aufgaben
• Integration von in-situ Messverfahren auf atomarer Messebene (z.B. Massen- oder Photoelektronenspektrometrie)
• Integration von Strahlprofil- und Leistungsdiagnostik über einen breiten Wellenlängenbereich

Anwendungsfelder finden sich z.B. im Bereich der Qualifizierung von neuartigen Absorbermaterialien für die Halbleiterindustrie, der Erzeugung von Stickstoff-Vakanz-Zentren für die Quantentechnologien oder innovativen Ansätzen zur resistlosen Strukturierung für zukünftige Knotenpunkte der Mikrochipherstellung. Für die Bearbeitung von industierelevanten und grundlagenorientierten Fragestellungen bietet sich stets die Möglichkeit eine Bachelor- oder Masterarbeit am Lehrstuhl anzufertigen.