EUV-Sonderkomponenten
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Entwicklung optischer Systeme und Sonderkomponenten für den EUV-Bereich
In der Gruppe findet eine eigenständige Entwicklung, Auslegung und Konstruktion von EUV-Detektoren, EUV-Optiken, optischen Systemen und Sonderkomponenten statt, die wesentliche Bestandteile für die Entwicklung der experimentellen Aufbauten sind. Beispiele dafür sind:
- Die Entwicklung von kompakten, vakuumtauglichen und EUV-sensitiven CCD-Kameras wie sie u.a. für Mess- und Justageaufgaben im EUV-Spektrometer verwendet werden
- Auslegung von Kollimator-Optiken für die Fokussierung von EUV-Strahlung inkl. des gesamten optischen Systems z.B. im EUV-Bestrahlungsaufbau
- Auslegung von Multilayer-Spiegeln für die spektrale Filterung von schmalbandigen EUV-Strahlungsbereichen, wie sie in der EUV-Lithographieanlage verwendet werden
- Die Mikro- und Nanofertigung von optischen Komponenten wie Spektralfilter und Beugungsgittern als Teilkomponenten für die Realisierung von komplexen EUV-Systemen.
Für die Realisierung der EUV-Anlagen und Sonderkomponenten verfügt der Lehrstuhl TOS im Rahmen von Kooperationen über Zugang zu Konstruktionsabteilungen, feinmechanischen und elektronischen Werkstätten und einer Reinrauminfrastruktur mit modernsten Anlagen im Bereich der Mikro- und Nanofertigung.
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