EUV-Technologie

 

Die Verwendung von EUV Strahlung (extrem-ultraviolette Strahlung, Wellenlänge 5 bis 50 Nanometer) ist der Schlüssel zur großflächigen und seriellen Herstellung von nanoskaligen Strukturen. Die hochauflösende EUV-Lithographie mit Strahlung bei 13,5 nm hat sich bereits als das fortschrittlichste Produktionsverfahren in der Halbleiterindustrie etabliert, und treibt die Fertigung von immer kleineren und leistungsfähigeren Microchips voran.

 

Neben der Strukturierung von nanoskaligen Strukturen, eignen sich die kurzen EUV-Wellenlängen auch zur hochauflösenden Vermessung von nanoskaligen Strukturen, wie sie in Nanowissenschaften und der Halbleiterindustrie benötigt wird. Von nicht zu vernachlässigbarer Bedeutung in der modernen EUV-Technologie ist auch zudem die grundlegende Untersuchung von optischen Eigenschaften von Materialien und Strukturen im EUV-Bereich sowie von Effekten, die aufgrund von Strahlung-Material-Wechselwirkungen unter EUV Bestrahlung auftreten. Basierend darauf wird z.B. die Entwicklung von neuartigen und optimierten EUV-Optiken ermöglicht und deren Langzeit-Verhalten in optischen Systemen ermittelt.

 

In der Gruppe EUV-Technologie am Lehrstuhl TOS werden mit kompakten Laboraufbauten innovative Verfahren der EUV-Lithographie und EUV-Metrologie entwickelt sowie Untersuchungen der EUV-Material-Wechselwirkung durchgeführt. Die Entwicklung von Sonderkomponenten für den EUV-Strahlungsbereich ermöglicht die Realisierung von alternativen Anlagenkonzepten. Unter Verwendung von kompakten EUV-Strahlungsquellen des Fraunhofer-Instituts für Lasertechnik (ILT) werden so zuverlässige Komplettsysteme für anspruchsvolle Forschungsaufgaben realisiert.

 

Neben den Ausschreibungen für Abschlussarbeiten und Stellenanzeigen für studentische Hilfskräfte freuen wir uns auch über Initiativ-Bewerbungen von interessierten Studierenden, die Teil unserer Forschungsgruppe werden möchten.